Volume 1,Issue 10
Fall 2025
气相催化氟化合成一氟甲烷的反应条件优化研究
一氟甲烷作为半导体行业中不可或缺的含氟蚀刻气体，展示出独特的应用价值。本研究对铬基催化剂采用了X射线衍射（XRD）、比表面积测定（BET）、X射线光电子能谱（XPS）分析及NH3程序升温脱附（NH3-TPD）等手段进行深入表征，明晰了催化剂的晶体结构、比表面积特性、表面铬元素的化学态及其酸性特征。细致探究反应温度、停留时间及原料比例（n(HF)/n(CH3Cl)）等关键因素对氟化反应效率的影响，本研究旨在探索一种生态友好型的一氟甲烷制备技术。实验数据表明，在反应温度设定为290℃、停留时间设为10秒、且原料配比n(HF)/n(CH3Cl)等于10的条件下，一氟甲烷的产率达到了最优水平。
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